中国台湾公布专利法部分修正草案

未分类 8个月前 admin

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近日，中国台湾智慧财产局公布了专利法部分条款的修正草案，并自该草案公布之日起60日内征询公众意见，以便应对新兴电子产业蓬勃发展。

为了适应国际外观设计的保护趋势，本次修订内容主要是与外观设计专利部分相关，重点内容如下。

1.外观设计专利保护范围的扩大：修正案放宽了图像设计必须应用于“物品”的限制，将电脑程序或其他电子技术产生的图像也纳入外观设计专利的保护主题。这不仅扩大了保护范围，也为电子图像的创新提供了法律保障。

2. 多项外观设计制度的引入：新的修正案允许申请人在一项申请中提交两项以上的相似设计，同时保留了原有的衍生外观设计制度。这大大简化了申请流程，提高了效率。

3. 不丧失新颖性的宽限期延长：从原来的6个月延长至12个月，给予发明人更多的时间来准备和完善他们的专利申请，但需要注意的是，专利公报上的公开不适用该宽限。

4. 分案申请期限的放宽：将分案申请的期限从原申请案再审查审结前提出，放宽至原申请案或再审查核准审定书送达后的3个月内都可以提出，为申请人提供了更大的灵活性。

5. 专利权属纠纷的民事诉讼明确化：修正案明确了专利权属纠纷应通过民事诉讼解决，由法院裁决，删除了以权属纠纷为举发理由的相关条款，这有助于清晰界定纠纷解决的途径。

6. 过渡条款的明确：修正案中也包含了明确的过渡条款，确保了新旧法规之间的平稳过渡。

随着专利法的不断修订和完善，我们可以看到中国台湾在知识产权保护方面的决心和努力，这些新举措不仅有助于促进电子产业的创新和发展，也为其他地区的知识产权保护提供了借鉴。

版权声明：admin 发表于 2024年10月16日 pm4:57。
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